화학연, 소부장 우수 국가연구시설로 선정 :: 전체

한국화학연구원의 화학소재 평가 및 실증화 연구시설이 소부장 우수 국가연구시설로 선정됐다(사진. 한국화학연구원).

한국화학연구원(이하 화학연)의 ‘화학소재 평가 및 실증화 연구시설’이 소부장 핵심 인프라 역할을 인정받아 소부장 우수 국가연구시설(N-Facility)로 선정돼 과학기술정보통신부 장관상을 수상했다.

화학연의 ‘화학소재 평가 및 실증화 연구시설’은 화학소재 장기신뢰성 평가, 고장분석 및 롤투롤(Roll-to-Roll) 코팅 실증 관련 인프라 및 기술을 보유하고 있어 2020년 7월 국가연구시설(N-Facility)에 지정됐다. 최근 3년간 780개 기업에 17,700건의 기술지원을 수행했으며 극저온 단열재 접착제 등 소재 국산화에 기여한 공로로 과학기술정보통신부 장관상을 수상했다.

국가연구시설(N-Facility)은 소재·부품·장비 핵심기술 자립역량 강화를 위한 국가연구인프라(3N) 중 하나로, 연구개발 상용화 단계에서 국가 핵심품목 연구개발 지원 및 테스트베드 제공을 통해 선도적 역할 수행하는 연구시설이다.

이번 장관표창은 국내 11개의 N-Facility 기관 중 우수한 지원성과를 창출한 연구시설에 수여됐다. 3N에는 국가연구시설 외에도 국가연구실(N-Lab), 국가연구시설(N-Facility), 국가연구협의체(N-TEAM)이 있으며, 현재 한국화학연구원은 N-Lab 3개, N-Facility 1개, N-TEAM 1개를 운영하고 있다.

이 연구시설은 기능성 코팅·필름 기술을 개발하고 있으며 필름 개발에 필요한 코팅 인프라로 파일럿 롤투롤 코터 6종 및 운영 공간 클린룸(1,000㎡), 준클린룸(230㎡)을 보유하고 있다. 또한 화학소재 연구개발에 필수적인 소재 물성의 장기 신뢰성 평가, 고장분석 인프라 등을 바탕으로 국내 기업의 공정기술지원 및 평가, 인증을 지원하고 있다.

화학소재솔루션센터 최우진 센터장은 “국가연구시설을 활용해 기업에 대한 직접적인 지원뿐만 아니라 자체 기술력 및 전문성을 지속적으로 강화해 소재·부품 분야의 자립 및 발전에 기여하도록 노력하겠다”라고 말했다.